硅材料硅產品清洗超純水設備

 　　硅材料硅產品清洗超純水設備，對水質的要求嚴格，因為微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物，這些雜質會以不同的形式附著在硅體的表面，其中有機物包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導，堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電，顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。

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　　超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。超純水是一般水質不可以代替的，超純水設備利用先進的EDI技術和反滲透技術，主要去除水中的細菌，病毒等雜質，保證水質可以滿足客戶的用水標準。